郑科探KT-Z1605CVD 金银铜铬镍靶材蒸镀仪

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电阻式热蒸发镀膜机 电阻式热蒸发镀膜机是郑州科探仪器设备有限公司生产,台式设计、软件自动操控、高性价比,非常适合实验室科研使用。 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面

小型蒸镀仪 郑州科探KT-Z1650CVD,台式设计、软件自动操控、高性价比,非常适合实验室科研使用。

通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史**久的PVD镀膜技术之一。热蒸发镀膜机一般主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。以下为蒸发镀膜设备的示意图。

技术规格:

- 基底尺寸:3英寸,4英寸,6英寸;

- 基底旋转:8转/分钟;

- 热蒸发源:电阻式热蒸发舟,交流电源;

- 腔体:不锈钢或石英腔体可供客户选择;

- 泵:前级干泵,分子泵;

- Load Lock样品传输腔室:手动或自动传输,高真空,支持多种样品衬底(选配);

- 工艺控制:PC/PLC机制的自动控制、数据处理、工艺记忆储存;

- 原位监控:石英晶振监测(QCM),光学监测,残余气体分析,其他原位监测技术或控制;

- 衬底固定:单衬底固定,客户化衬底固定方式;

- 衬底夹具:加热,冷却,偏置,旋转等;

- 保护样品:配有样品挡板,可手动或自动开/关挡板,达到及时遮挡样品效果;

小型真空钨舟热蒸镀仪KT-Z1650CVD

是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远

低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。

是一款小型多功能镀膜仪,额定1800度高温,自动样品挡板,靶台旋转,触摸屏多段控制,工艺储存等功能。

正空蒸发镀膜包括以下基本过程:(1)加热蒸发过程:包括由凝聚相转变为气相的过程,每种蒸发物质在不同的温度有不同的饱和蒸气压。(2)气态原子或分子在蒸发源与基片之间运输,即原子或分子在环境气氛中的飞行过程。

(3)蒸发原子或分子在基片表面张得沉积过程。即是蒸发,凝聚,成核,核生长,形成连续的膜。由于基板温度远

低于基板温度远低于蒸发源温度,因此,气态分子在基片表面将发生直接由气态到固态的相转变过程。